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切片：将单晶硅棒切成具有精确几何尺寸的薄硅片。此过程中产生的硅粉采用水淋，在切片过程中有不一样的结果，主要是大小问题，产生废水和硅渣。
退火：双工位热氧化炉经氮气吹扫后，用红外加热至300~500℃，硅片表面和氧气发生反应，使硅片表面形成二氧化硅保护层。
倒角：将退火的硅片进行修整成圆弧形，防止硅片回收时硅片边缘破裂及晶格缺陷产生，增加磊晶层及光阻层的平坦度。
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